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异构二甲苯化学气相缩合法的改进思路

更新时间:2019-07-16 点击数:920

异构二甲苯-C的化学气相缩合方法通过改进的化学气相冷凝方法沉积在聚乙烯萘(PEN)基板上。二甲苯冷凝装置包括冷凝室和圆柱形石英加热管单元石英管由两部分组成:升华区和裂缝区。二甲苯化学气相冷凝法的沉积速率(0.37μm/hr)比传统的CVC法快2-5倍,在优化条件下形成的膜的平均厚度和标准偏差分别为367nm和9.38nm。工艺条件如下:升华温度为130℃,热解温度为660℃,流速为75sccm。

异构二甲苯的图示


等离子体聚对二甲苯的制备可以通过等离子体聚合法制备低介电常数聚合物聚对二甲苯,并且即使输入能量极低(例如,SW),聚合物的沉积速率也很高。以N2为载气,对二甲苯沉积在用Ar等离子体预处理的多孔SILK表面,可形成具有芳环的薄层,可提高铜与SILK之间的结合强度。即使在N2保护下在真空炉中在300℃下退火3小时之后,二甲苯聚对二甲苯接枝层也可以有效地防止铜扩散到SILK中。研究了聚对二甲苯作为阻挡层在铜51-SILK衬底上的应用。在某些RF条件下,ppPX薄膜表面的苯环可以保留。

聚对二甲苯涂层的性质聚对二甲苯通过活性单体的气相聚合制备。二甲苯单体的气相沉积几乎与膜的形成同时进行,并且没有液相过渡态。由于薄膜是在室温下形成的,因此可以保护涂层部件免受表面张力引起的变形损伤,并且可以在固体表面上制备聚合物薄膜(包括锐角,裂缝和内孔制备工艺。异构二甲苯清洁和充电炉真空(旋转)裂解炉加热预沉积炉加热合格涂层部件清洗涂层表面的表面,涂层升华炉加热涂层工艺表面)均匀成型,极薄且无针孔,绝缘性极佳,物理和机械性能,光学性能,电绝缘,生物相容性,以及许多优良的性能,如防霉,防腐和耐盐雾。

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